6月17日，激光加工设施厂商大族激光在互动平台表示，公司在研光刻机项目分辨率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等领域的应用，今年有望实现小批量销售。

  不久前，大族激光还在互动平台表示，目前公司正在研发光刻机项目，重心放在分立器件与LED等领域的应用。据了解，该光刻机产品应当是较为低端的光刻机设备。

  资料显示，大族激光成立于1996年，是亚洲最大、世界上的排名前三的工业激光加工设施制造商，基本的产品包括激光打标机系列、激光焊接机系列、激光切割机系列、新能源激光焊接设备、激光演示系列、PCB钻孔机系列、工业机器人等多个系列200余种工业激光设备及智能装备解决方案。

  关键字：光刻机编辑：北极风 引用地址：大族激光：在研光刻机项目今年或实现小批量销售

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  基于三星10nm制程工艺的骁龙835早已随着三星S8、小米6等一众手机面世，而基于台积电10nm制程工艺的联发科Helio X30也和魅族Pro 7系列手机一起亮相了。除此之外麒麟970及A11处理器将于今秋和消费的人见面，各家产品虽有强有弱但手机芯片的10nm时代已经展开，下一步就是向7nm推进，工艺推动者无疑就是三星和台积电这两家已较劲了几代制程的业者了。下面就随模拟电子小编共同来了解一下相关联的内容吧。   对于7nm制程工艺，三星和台积电两大晶圆代工领域巨头都早已入手布局以便争抢IC设计业者们的订单。其中三星原定于明年破土动工的韩国华城18号生产线动工时间已被提前到了今年11月，以便在2019年能够进入7nm制程量产阶段。值

  首先简单来说一下光刻机，光刻机作为半导体行业中重中之重的利器，中科院光电所的胡松、贺晓栋在《中科院之声》发表的一篇文章中这样介绍它的重要性：后工业时代包括现在的工业 3.0、工业 4.0，都以芯片为基础，光刻机作为制造芯片的工具，就等于工业时代的机床，前工业时代的人手。 五代光刻机 根据所使用的光源的改进以及工艺的不停地改进革新，光刻机经历了五代产品的发展，其中每次光源的改进都明显提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。 国产光刻机为何“难产” 尽管 中芯国际 表示可以不使用光刻机，用自研的“N+1”制程工艺就能够研发出 7nm 工艺（逼得中芯都直接不用光刻机了），但 5nm 乃至更先进制程工艺芯片

  为何如此“难产”？ /

  6月3日，国家知识产权局办公室印发2021年度专利专项研究项目立项名单的通知，其中研究项目涉及集成电路领域知识产权保护，量子通信技术、光电集成电路产业、高端光刻机产业、半导体光刻胶等专利分析研究。 具体来看，包括集成电路领域知识产权保护规则研究，项目承担单位是中南财经政法大学、最高人民法院知识产权法庭；量子通信技术专利分析研究，项目承担单位是国家知识产权局专利局通信发明审查部、北京量子信息科学研究院；光电集成电路产业专利分析研究，项目承担单位是华中科技大学、武汉光电工业技术研究院有限公司；高端光刻机产业专利分析研究，项目承担单位是国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心；半导体光刻胶专利分析研究，项目承担单位是南京工业大学、江苏省

  据商务部网站，12月16日下午，商务部副部长、国际贸易谈判副代表俞建华与荷兰外交部外贸与发展合作大臣卡格以视频形式共同主持召开中荷经贸混委会第17次会议，就共同关心的中荷、中欧经贸合作议题深入交换意见。 俞建华表示，当前中国正在加快构建以国内大循环为主体、国内国际双循环相互促进的新发展格局，这将给中荷、中欧合作带来新机遇。面对新型冠状病毒肺炎疫情冲击，中荷经贸合作展现出强大韧性，欢迎荷兰企业扩大对华贸易投资。中荷双方应继续坚持多边主义，积极地推进全球贸易投资自由化便利化。中方愿在服务贸易、电子商务等领域扩大合作，同时希望荷方在华为5G、EUV光刻机等问题上秉持公平立场。中方将与荷方密切合作，落实好两国领导人共识，推动双边经贸合作再上一个新

  日前，长江存储的首台光刻机运抵武汉天河机场，设备相关的海关、商检及边防口岸的相关手续办理完成后，即可运至长江存储的工厂。据消息，这台光刻机为ASML的193nm浸润式光刻机，售价7200万美元，用于14nm~20nm工艺。这也从侧面透露了长江存储3D NAND闪存芯片的工艺制程。这是长江存储的第一台光刻机，陆续还会有多台运抵。 在今年的4月5日，长江存储首批400万美元的精密仪器开始进场安装，标志着国家存储器基地从厂房建设阶段进入量产准备阶段。据悉，长江存储已经试产，产业链上不少企业都拿到了样片在测试。如顺利，今年四季度，中国首批拥有完全自主知识产权的32层3D NAND闪存芯片有望实现量产。 紫光集团全球执行副总裁、

  据彭博社报道，预计美国和荷兰将于本月就限制中国获得先进芯片技术进行新一轮谈判，在此期间，美国将加大对其盟友的压力，以阻止ASML向中国供货。 据知情的人偷偷表示，美国国家安全委员会高级官员Tarun Chhabra和负责工业和安全的商务部副部长Alan Estevez将前往荷兰进行讨论。 知情人士称，由于美国一直在向荷兰政府施压，要求其停止向中国出售更广泛的先进芯片生产机器，双方将讨论扩大出口管制，尽管他们预计不会达成协议。据一位知情的人偷偷表示，此次访问是正在进行的双边磋商的一部分，双方还将讨论美荷科技伙伴关系中的别的问题。 对此，美国国家安全委员会、美国商务部和荷兰对外贸易与发展合作部均拒绝置评。 ASML 已经没有在中国销售

  一、四大设备，晶圆厂80%支出 集成电路制造设备按类型分为氧化/扩散炉、光刻机、刻蚀机、离子注入机、薄膜沉积设备、清理洗涤设施与检测设备等；按工艺分为成熟工艺设备和先进工艺设备两种，成熟工艺设备包含 8 英寸、6 英寸等 90nm 以上技术节点，先进工艺设备以 12 英寸 90nm 以下技术节点为主。 ▲集成电路产业链 ▲集成电路制造流程及对应设备 晶圆厂 80%以上的投资用于购买集成电路设备、刻蚀设备、薄膜沉积设备(包含 CVD 设备与 PVD 设备)，光刻设备和清理洗涤设施是四大主要设备，2019年四大主要设备投资规模占晶圆制造设备总投资的占比分别是 30%、25%、 23%、5%。清理洗涤设施虽然投资占比较低，但清洗步骤数量约占

  仍是痛 /

  中学课本上有一篇文章叫《核舟记》，讲述了古人在核桃上刻出苏轼泛舟赤壁图的奇巧技艺。 几百年后，半导体产业已经将这种细微处创造天地的技艺发展到超乎想象的境地。 本文要说的，就是让半导体真正能够妙至颠毫的工具，也是人类工业最伟大的发明之一…… 一、引子 从1947年美国贝尔实验室里诞生的点接触型的锗晶体管开始，芯片半导体产业迅猛发展，如今已精密到在一粒米上刻下整部《红楼梦》不成问题。 这背后需要一个强大的工具——光刻机。 说到光刻机，这个一直低调隐匿在芯片产业幕后的人类伟大发明，仿佛一夜之间受到了全世界的关注。 今天，IT之家小编汐元就和大家聊聊光刻机的那些事。 二、贸易风云裹挟下

  牛在哪儿？来看看就知道了 /

  半导体设备研究系列之明暗场缺陷检验测试设备：一“明”一“暗”检缺陷，相辅相成提良率

  的技术原理和技术发展趋势

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